• 电子回旋共振式电浆辅助化学气相沉积系统 (ECR-PECVD)
  • 微波电浆辅助化学气相沉积系统 (MW-PECVD)
  • 高温炉式化学气相沉积系统 (Thermal-CVD)
  • 离子束溅镀沉积系统 (IBSD)
  • 磁控溅镀沉积系统 (MSD)
  • 快速升温系统 (RTP/RTA)
  • 热蒸镀沉积系统 (VPD)
  • 感应耦合电浆辅助反应离子刻蚀系统 (ICP-RIE)
  • 有机金属化学气相沉积系统 (MO-CVD)